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本發明通過對石(shi)墨進行(xing)高溫處(chu)理,用(yong)CVD方法在(zai)石(shi)墨表(biao)面制備SiC內層(ceng)(ceng)(ceng),用(yong)涂刷的方法在(zai)CVDSiC內層(ceng)(ceng)(ceng)表(biao)面制備Y2O3外(wai)層(ceng)(ceng)(ceng),用(yong)液相浸漬的方法對Y2O3外(wai)層(ceng)(ceng)(ceng)進行(xing)致密化(hua),制備由CVDSiC。

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1185CN201110429033.4一(yi)種(zhong)(zhong)微孔石墨(mo)碳化硅磚(zhuan)1186CN201110441477.X一(yi)種(zhong)(zhong)石墨(mo)微粉裝(zhuang)填1292CN201210111232.5一(yi)種(zhong)(zhong)聚四(si)氟乙烯浸漬石墨(mo)換熱塊的生產(chan)方法1293CN201210124239.0。

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