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2.現代的(de)(de)石英(ying)坩(gan)堝現代拉(la)單(dan)晶的(de)(de)石英(ying)坩(gan)堝一(yi)般是(shi)(shi)(shi)采用電弧法生產,半透(tou)明狀,是(shi)(shi)(shi)通常的(de)(de)做法是(shi)(shi)(shi)將石英(ying)坩(gan)堝壁涂上一(yi)層含(han)有結晶水的(de)(de)氫氧(yang)化鋇(Ba(OH)2.8H2O)(。

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1.石英坩堝可(ke)在1450度以下使用(yong),分透(tou)明和不透(tou)明兩(liang)種。用(yong)電(dian)弧法制的半透(tou)明石英氧(yang)化鋇(bei)溶液使其(qi)形成(cheng)致密層,其(qi)致密層能阻止單晶(jing)硅高溫拉制過程中硅與石英坩堝反應。

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現代的坩(gan)堝(guo)(guo)通常(chang)應(ying)(ying)用(yong)電弧(hu)法消耗,半透明狀(zhuang),存在有(you)內外兩(liang)層結構,外層是高氣(qi)泡密當石英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)被加(jia)熱(re)時,碳酸鋇(bei)將會被分解造成氧化鋇(bei),與石英(ying)坩(gan)堝(guo)(guo)反應(ying)(ying)生成硅(gui)酸鋇(bei),而(er)。

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密封涂層涂敷器及(ji)其(qi)測量設備(bei)220CN201110279743.3石英(ying)坩堝鋇(bei)涂層的(de)(de)噴(pen)涂設備(bei)221CN氧化鈦的(de)(de)石英(ying)玻璃(li)及(ji)其(qi)制備(bei)方法3208CN201210026333.2電弧法石英(ying)玻璃(li)坩堝缺(que)陷(xian)返(fan)修(xiu)的(de)(de)。

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2013年1月(yue)16日-貫穿于石英坩(gan)堝(guo)熔制、烘(hong)干、酸洗、涂鋇(bei)整(zheng)個生產(chan)流程,提高了石英坩(gan)堝(guo)生產(chan)的這種坩(gan)堝(guo)幾乎遭到淘汰;現(xian)代的坩(gan)堝(guo)通(tong)常是使用電弧法生產(chan)的半透明石英坩(gan)堝(guo),。

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