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[摘要]本實用(yong)新型涉及一(yi)種(zhong)里層為透明層,外層為半透明層的(de)內層透明電(dian)弧石(shi)英坩(gan)堝熔制機,屬采用(yong)真空電(dian)弧離心(xin)法生產(chan)半導體用(yong)石(shi)英坩(gan)堝的(de)熔制設備領域(yu)。它(ta)由“三高”。

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石英(ying)坩(gan)堝工藝流(liu)程與(yu)生產技(ji)術1.石英(ying)坩(gan)堝可在1450度以下使用(yong),分(fen)透(tou)明(ming)(ming)和不透(tou)明(ming)(ming)兩種。用(yong)電弧法制的(de)(de)半透(tou)明(ming)(ming)石英(ying)坩(gan)堝是拉制大直徑單晶(jing)硅,發展大規模(mo)集成電路(lu)必不可少的(de)(de)基礎。

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