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二(er)氧化硅研磨(mo)球(qiu)采用二(er)氧化硅石經切割、打磨(mo)和拋(pao)光等工(gong)藝制成。形(xing)狀有球(qiu)型2、研磨(mo)前,清洗瑪(ma)瑙(nao)珠(zhu)和研磨(mo)機筒內壁;3、先把需研磨(mo)的物料裝入研磨(mo)機筒。
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2013年9月30日-禾川化工專(zhuan)業(ye)從事二氧化硅研(yan)磨液成分分析(xi)(xi)配方(fang)分析(xi)(xi),成分分析(xi)(xi),配方(fang)研(yan)制,為研(yan)磨禾川技(ji)術以(yi)蘇州大(da)學(xue)(xue)為產學(xue)(xue)研(yan)基地,融合了中科(ke)院(yuan)有機所、應化所、浙江大(da)學(xue)(xue)。
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新型CMP用二(er)氧化硅研磨料(liao)娟劉玉嶺張建新摘要:介紹(shao)化學機械拋光技術的重要性,找出影響其(qi)性能的關鍵(jian)因(yin)素即為研磨料(liao)。然后對常用的研磨料(liao)種類做(zuo)概要論述,。
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2013年8月5日-納米二氧化硅(gui)拋光(guang)液VK-SP30F又稱研磨膏,切削(xue)液,拋光(guang)漿,TEM下顯(xian)示(shi)50nm方形不規(gui)則片狀,表明切削(xue)力(li)強;ICP滴(di)定(ding)結果顯(xian)示(shi)純(chun)度(du)99.9%,純(chun)度(du)高于國(guo)內同類產品(pin),。
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[圖文]炭黑(hei)顏(yan)料(liao)研(yan)磨(mo)機(ji)高效顏(yan)料(liao)研(yan)磨(mo)機(ji)工(gong)作原(yuan)理:錐體磨(mo)(膠體磨(mo))是(shi)由電動(dong)機(ji)通過皮帶(dai)傳動(dong)帶(dai)動(dong)轉齒(或稱為轉子(zi))與相配的定(ding)齒(或稱為定(ding)子(zi))作相對的高速旋轉,被加工(gong)物料(liao)通過。
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產品供應研磨拋(pao)光材料(氧化(hua)鋁(lv)微粉)金剛砂、氧化(hua)鉻、氧化(hua)鈰、二(er)氧化(hua)硅公司(si)名稱:襄樊美(mei)均(jun)機械技(ji)術檢測(ce)有限公司(si)發布日期(qi):2014-01-09有效期(qi)限:不限。
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新型CMP用二氧化硅研磨料-《半導體技術》2005年08期
白炭(tan)黑精磨機2012/9/5A-供應七星(xing)白炭(tan)黑研(yan)磨機2012/9/5A-當(dang)歸膠體磨2012/9/5冷熱缸(gang)2012/9/5發酵罐2012/9/5配料貯罐2012/9/5反(fan)應釜2012/9/5。
納米二氧化硅拋光研磨液VK-SP30F物性介紹和應用展望
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2012年8月22日-白(bai)炭黑打漿工藝(yi)/沉淀法(fa)二氧化硅制(zhi)漿膠(jiao)(jiao)體(ti)磨(mo)(mo)/白(bai)炭黑磨(mo)(mo)漿機,昊(hao)星生(sheng)產(chan)的鈦(tai)白(bai)粉(fen)研磨(mo)(mo)機、研磨(mo)(mo)泵、鈦(tai)白(bai)膠(jiao)(jiao)體(ti)磨(mo)(mo)、高剪切白(bai)炭黑膠(jiao)(jiao)體(ti)磨(mo)(mo),專門為生(sheng)產(chan)二氧化硅。
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二(er)(er)氧(yang)(yang)化(hua)硅(gui)研磨液廣泛應(ying)用(yong)于(yu)金(jin)屬表面處理,禾川化(hua)工專業(ye)從事二(er)(er)氧(yang)(yang)化(hua)硅(gui)研磨液配方分析,禾川技術以(yi)蘇(su)州大學(xue)為產(chan)學(xue)研基地,融合了中科院(yuan)有機所(suo)、應(ying)化(hua)所(suo)、浙江大學(xue)、南京。
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蘭州瑞德集(ji)團(tuan)(原蘭新(xin)集(ji)團(tuan))是(shi)甘肅省大型骨干(gan)企業集(ji)團(tuan),是(shi)信息產(chan)業部(bu)電子(zi)專用設備14家骨干(gan)企業之一,是(shi)鐵道部(bu)通信產(chan)品定點生產(chan)企業。公司(si)享(xiang)有(you)獨立的進出口經營自(zi)主權,并。
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