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新型CMP用二氧化硅研磨料(liao)娟劉玉嶺(ling)張建新摘要:介(jie)紹化學機(ji)械拋光(guang)技術的(de)重要性(xing),找出影響其性(xing)能的(de)關鍵因素即為研磨料(liao)。然后對常用的(de)研磨料(liao)種類做概要論述,。

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2012年(nian)(nian)12月(yue)10日-隨著(zhu)國(guo)產硅石灰粉專用研(yan)磨(mo)設(she)備技術(shu)(shu)的(de)升級,在(zai)市場(chang)中出現的(de)次數越(yue)來越(yue)多(duo),根據我國(guo)自主技術(shu)(shu)的(de)開(kai)發潛能來看,要不了(le)幾年(nian)(nian),我國(guo)硅石粉的(de)處理能實現根的(de)。

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2013年(nian)8月(yue)5日-納(na)米(mi)二氧化硅(gui)拋光液VK-SP30F又(you)稱研磨(mo)膏,切削液,拋光漿,TEM下(xia)顯(xian)示(shi)50nm不腐蝕設備、粘度小,顆粒細(xi)而均勻,不會(hui)有(you)劃痕,使用后(hou)容易清(qing)洗等優點;。

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