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2013年(nian)8月2日-平面研磨(mo)機(ji)廣泛用于LED藍(lan)寶石襯底、光學玻璃晶片(pian)(pian)、石英晶片(pian)(pian)、硅片(pian)(pian)、諸片(pian)(pian)、模(mo)具、導(dao)光板(ban)、光扦(qian)接頭(tou)等各(ge)種材料的(de)單面研磨(mo)、拋(pao)光。